中国又拿下3台光刻机，并且还是荷兰ASML，具体是什么情况，今天我们就来聊聊这个事儿。

　　中国有一家公司叫上海新阳，公司在2020年的某次业绩说明会上表示，公司花费约1亿元购买了三台光刻机，光刻机型号为ASML-1400。

　　那么随后，第一台光刻机在2020年12月份的时候，就已经到位并开始安装调试。但是受到各种复杂因素的影响，上海新阳虽然积极与光刻机供应商、合作方沟通协调设备的运输和安装细节等等，但光刻机并没有按照计划完成部署。

　　ASML-1400光刻机其实并不先进，工艺制程只有55纳米，并且还是二手的，但也具有很大的现实意义。因为这三台光刻机，并不是用来制造芯片的，而是用来进行光刻胶验证的。

　　我们都知道，光刻胶是芯片制造领域的重要材料之一，其品质好坏直接决定着光刻制程的成败，所以技术难度极高，目前全球的光刻胶市场主要被日美两国的技嘉企业占据着。全球前五大厂商占据了光刻胶市场87%的份额。

　　这些年，高端光刻胶需求量旺盛，KrF和ArF光刻胶已占全球光刻胶市场的63%，高端光刻胶一直被日本企业垄断。因为我国在这一领域起步较晚，所以处于落后的局面。据中国产业信息网公布的数据显示，我国在低端PCB光刻胶的产值占比高达94.4%。但在高端半导体光刻胶的产值却只有1.6%。

　　为了打破外国企业对光刻胶的垄断地位，我国也将ArF高端光刻胶列入国家“02专项”的一个重点攻关项目。

　　2020年12月17日，南大光电宣布，其自主研发的ArF光刻胶产品已经成功通过客户的使用认证。可用于90nm-7nm技术节点的芯片生产。

　　在此之前的12月14日，上海新阳宣布，该公司ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶的研究阶段均已完成。预计2022年可实现KrF厚膜光刻胶的量产，2023年开始ArF干法光刻胶的量产。

　　国产高端光刻胶打破垄断，已经指日可待。

　　当然，有印象的小伙伴应该能想起来，买二手光刻机用于研究，已经不是第一次了，我之前视频里提到过的几个，例如：2020年9月29日，晶瑞半导体发布公告称，斥资7500万元从SK海力士购买了一台二手ASML光刻机，这台光刻机仅能达到36.5纳米级别的工艺。但购买的目的也很明确，主要用于高端光刻胶的研发。

　　所以如果你特别关心中国半导体的话就会发现，在半导体供应链里的各个重要环节，我们都在不断地取得突破，从基础材料、到光刻机关键设备、再到生产工艺，都持续获得重大进展。所以我一直在说拭目以待，是因为我是真心觉得，胜利就在前方不远处了。

　　当然这一切都与企业的投入、科研人员的辛苦付出、国家的大力支持分不开的，而作为普通老百姓的我们，需要理解并且支持他们，而不是一位的说风凉话，中国是没有euv光刻机，暂时也造不出来这么先进的光刻机，那又怎样，耽误你用手机了吗，耽误你打游戏了么，耽误你看电影了吗？如果你不看好，你可以不看，没人逼着你看。如果你觉得没用，你也可以不用，现在和将来也别用，也没人逼着你，对吧。

　　总之，不妄自菲薄也不盲目自大，脚踏实地的前行就好。未来，世界半导体的格局，将会因为中国而变，世界半导体重心，将会移到中国，不信咱们走着瞧！

　　我是老万，记得关注我，谢谢大家，我们明天不见不散。

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